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사건
2013구합51244 유족급여및장의비부지급처분취소
원고
강○○
평택시
소송대리인 변호사 최성호
피고
근로복지공단
서울 영등포구 버드나루로2길 8
송달장소 인천 남동구 미래로 16 미추홀빌딩 8층 경인지역본부 송
무부
대표자 이사장 이재갑
소송수행자 김수경
변론종결
2013 . 8 . 21 .
판결선고
2013 . 10 . 18 .
주문
1 . 피고가 2012 . 11 . 26 . 원고에 대하여 한 유족급여 및 장의비 부지급 처분을 취소한
다 .
2 . 소송비용은 피고가 부담한다 .
청구취지
주문과 같다 ( 원고는 소장 청구취지란에 처분일을 2012 . 11 . 27 . 로 기재하였으나 이는
오기인 것으로 보인다 ) .
이유
1 . 처분의 경위
가 . 망 김○○ ( 1980 . 1 . 8 . 생 , 이하 ' 망인 ' 이라 한다 ) 는 1999 . 4 . 26 . 삼성전자 주식회 사 ( 이하 , ' 삼성전자 ' 라 한다 ) 에 입사하여 2004 . 2 . 29 . 퇴사할 때까지 기흥사업장 2라인 에서 생산직 근로자 ( 오퍼레이터 ) 로 근무하였다 .
나 . 망인은 2008년 4월경 급성 골수성 백혈병으로 진단받고 치료 중 2009 . 11 . 24 . 만 29세의 나이로 사망하였다 . 사망진단의는 망인의 직접사인을 패혈증으로 , 선행사인 을 백혈병으로 판정하였다 .
다 . 망인의 배우자인 원고는 망인의 사망이 업무상 재해에 해당한다면서 2010 . 5 . 14 . 피고에게 유족급여 및 장의비의 지급을 청구하였다 .
라 . 피고는 2010 . 6 . 23 . 산업재해보상보험법 시행규칙 제22조 , 산업안전보건법 시행
규칙 제107조의2 제1항 제2호에 따라 한국산업안전보건공단에 망인의 발병 원인에 관
한 역학조사를 의뢰하였다 . 이에 따라 산업안전보건연구원이 실시한 역학조사 ( 이하 , ' 이
사건 역학조사 ' 라 한다 ) 결과의 주요 내용은 아래 표와 같고 , 그 조사결과를 평가하기 위해 2010 . 12 . 2 . 개최된 한국산업안전공단 역학조사평가위원회에서는 위원 9명 중 7 명1 ) 이 업무상 재해가 아니라는 취지의 견해를 , 1명2 ) 이 판단을 유보하는 견해를 각 제
시하였으며 , 1명은 의견을 제시하지 않았다 .
마 . 피고는 2011 . 1 . 17 . 이 사건 역학조사 결과에 대한 역학조사평가위원회의 다수 의견을 따라 , 망인이 백혈병의 원인 요인에 노출된 수준이 자연노출 수준 정도로서 직
업적 노출이 있었다고 보기 어려워 망인의 급성 골수성 백혈병과 업무와의 상당인과관
계를 인정할 수 없다는 이유로 유족급여 및 장의비 부지급 처분을 하였다 .
바 . 원고는 2012 . 11 . 21 . 피고에게 유족급여 및 장의비 지급을 다시 청구하였으나 ,
피고는 2012 . 11 . 26 . 위 2011 . 1 . 17 . 자 처분과 같은 이유로 그 지급을 거부하는 이
사건 처분을 하였다 .
[ 인정 근거 ] 다툼 없는 사실 , 갑 제1호증의 1 , 2 , 갑 제18호증 , 을 제1호증의 1 , 2 ,
을 제2 , 4 ~ 7호증의 각 기재 , 변론 전체의 취지
2 . 이 사건 처분의 적법 여부
가 . 원고의 주장
망인은 삼성전자의 가장 노후한 시설 중 하나인 기흥사업장 2라인의 수동 식각공 정 등에서 주로 근무하는 동안 ① 식각 공정에서 사용되었거나 광학현상 공정에서 묻
어 온 벤젠 , 포름알데히드 , 에틸렌옥사이드 , 트리클로로에틸렌 ( Trichloroethylene , 이하 ' TCE ' 라 한다 ) 등의 발암물질에 노출되었고 , ② 같은 라인 내 다른 공정에서 발생하여 건물 외부로 배출되지 않고 라인 내로 순환된 비소화합물 등의 유해물질에도 노출되었
으며 , ③ 이온주입 공정에 설치된 이온주입기에서 발생하는 전리방사선의 영향도 아울
러 받았고 , ④ 나아가 3교대 근무를 하면서 수시로 생체리듬을 깨는 야간근무 , 초과근 무 등을 하여 업무상 과로와 스트레스를 받았는바 , 이와 같은 작업환경 및 과로로 인
하여 급성 골수성 백혈병이 발병하였거나 적어도 그 발병이 촉진되어 망인은 사망에 이르렀으므로 망인의 사망은 업무상 재해에 해당한다 .
나 . 인정 사실
1 ) 망인의 건강상태
가 ) 망인이 삼성전자에 재직 중이던 2001년 건강검진에서 백혈구 5 , 430 , 적혈구
451 , 혈색소 12만 4천 , 혈소판 27만 7천으로 정상 판정을 받았고 , 2002년 3월 건강검 진에서 혈액검사결과 백혈구 2 , 460 , 적혈구 444만 , 혈색소 12 . 7 , 혈소판 14만 5천으로 백혈구 수치가 낮아 2개월 후 재검한 결과 백혈구 4 , 590으로 최종적으로 정상 판정을 받았으며 , 2003년 시행한 검사에서는 백혈구 5 , 840 , 적혈구 498만 , 혈색소 13 . 9 , 혈소
판 23만으로 정상 판정을 받았다 .
나 ) 망인은 가족 중에 혈액질환이나 암질환이 있는 사람이 없고 , 부모 모두 생존 해 있으며 , 삼성전자가 첫 직장이고 퇴사 후에는 농업 관련 업체에서 씨앗을 배양하는 작업을 6개월 정도 한 것 외에는 전업주부로 지냈다 . 망인은 술 , 담배를 하지 않았다 .
다 ) 망인은 삼성전자 근무 당시 자주 머리가 아프고 체하였으며 3교대 근무를 힘들어하다가 퇴사하였고 , 2004 . 12 . 26 . 결혼하여 임신하였으나 2005년 2월 말경 자연
유산을 겪었고 , 2006년 말경 다시 임신하여 2007년 7월경 아들을 출산하였다 .
라 ) 망인은 2008년 4월 초 팔다리에 멍 자국이 나타나 병원을 방문하였고 ,
2008 . 4 . 15 . 서울아산병원에서 급성 골수성 백혈병으로 진단받고 항암치료를 받아
2009년 6월경 호전되었다 . 그러나 2008년 10월경 재발하여 골수이식을 시행하였고 ,
2009년 7월경 다시 재발하여 같은 해 10월경 두 번째 골수이익을 받았으나 2009 . 11 . 24 . 사망하였다 .
2 ) 삼성전자의 반도체 생산 과정 및 기흥사업장의 현황
가 ) 삼성전자의 반도체 사업장은 크게 기흥사업장과 온양사업장으로 나뉘는데 ,
기흥사업장에서는 웨이퍼3 ) 의 제조 , 회로설계 , 가공 공정이 , 온양사업장에서는 웨이퍼를
칩으로 절단하는 공정 및 조립 , 검사 공정이 이루어진다 .
나 ) 이 중 웨이퍼 가공 공정은 ① 웨이퍼 표면에 실리콘 산화막을 형성하는 확
산 ( Diffusion ) 공정 , ② 웨이퍼 표면에 회로를 만드는 광학현상 ( Photolithography ) 공
정4 ) , ③ 산화막과 광학 과정에서 만들어진 감광막을 제거하는 식각 ( Etching ) 공정 , ④
웨이퍼 표면에 전도성 또는 절연성 막을 형성하는 증착 ( Deposition ) 공정 ( 화학적 기상
증착 ( Chemical Vapor Deposition : CVD ) 과 물리적 기상 증착 ( Physical Vapor Deposition : PVD ) 으로 나뉜다 } , ⑤ 반도체에 전도성을 부여하기 위해 ' 도판트 ' ( Dopant ) 라는 불순물을 주입하는 이온주입 ( Ion Implantation ) 공정 , ⑥ 웨이퍼 가공 과정에서 생
성된 웨이퍼 표면의 산화막 등을 화학적 , 물리적 방법으로 연마하는 연마 ( Chemical Mechanical Polishing ) 공정 등 6개의 세부 공정으로 이루어진다 .
다 ) 광학현상 공정에서는 웨이퍼에 감광 성질을 가지는 감광액 ( 이를 ' 포토레지 스트 ' ( Photoresist ) , 줄여서 ' PR ' 이라고도 한다 ) 을 도포한 후 회로패턴이 새겨진 유리판 을 올려놓고 그 위에서 자외선 ( UV ) 등의 빛을 통과시키는데 , 이때 빛을 받은 부분의 감광액은 용해되거나 제거되고 , 빛을 받지 못한 감광액은 그대로 남게 되어 앞서 형성 된 실리콘 산화막을 보호하게 된다 . 남아 있는 감광액은 광학현상 공정의 세부 공정인 세척 공정에서 일부 제거되고 , 남은 감광액은 식각 공정에서 감광액으로 보호되지 않
은 부분의 산화막 등과 함께 최종 제거된다 . 습식식각 공정은 각종 산 및 염기 물질로
이루어진 액체를 이용하여 실리콘 산화막 , 감광액 등을 식각하는 습식식각 과정과 가
스를 이용하여 식각된 표면과의 물리적 충돌과 반응을 통해 식각하는 건식식각 과정으 로 나뉜다 .
라 ) 이온주입 공정에서는 이온주입장비를 이용하여 식각공정에서 제거된 실리콘 산화막 자리에 도판트를 가속해 주입함으로써 전자소자의 특성을 만들어 주는데 , 이온 주입장비를 사용하는 과정에서 전리방사선이 방출된다 .
마 ) 기흥사업장은 기흥단지 ( 1984년 설립되었고 8개의 웨이퍼 가공라인이 있다 ) 와 화성단지 ( 2002년 설립되었고 5개의 웨이퍼 가공라인이 있다 ) 로 이루어져 있다 .
바 ) 망인이 근무하였던 기흥사업장 2라인은 1 , 3라인과 함께 기흥단지에서 가장
오래된 생산라인 중 하나로 , 현재에는 폐쇄된 상태이다 .
3 ) 망인의 업무내역 등
가 ) 망인은 1999 . 4 . 26 . 삼성전자에 입사한 후 1999년 4월부터 2002년 10월까 지 3년 7개월 동안 기흥사업장 2라인의 습식식각 공정에서 근무하였고 , 2002년 11월부
터 2002년 12월까지 2개월 동안 건식식각 공정에서 근무한 후 2003년 1월부터 2004년 2월 퇴사 시까지 1년 1개월간 다시 습식식각 공정에서 근무하였다 .
나 ) 망인이 2라인의 습식식각 공정에서 근무할 당시 수동설비에서만 작업을 했 는지 수동설비 외에 자동설비에서도 작업을 했는지는 기록상 불분명하다 .
다 ) 수동 습식식각 공정의 경우 , 산업안전보건연구원이 2010년경 이 사건 역학
조사를 진행할 당시에는 2라인은 이미 폐쇄되었고 기흥사업장 내에 수동설비로 식각작
업이 이루어지는 곳은 남아 있지 않았으나 , 기흥사업장 3라인에 근무하다가 급성 골수
성 백혈병으로 사망한 황유미의 발병원인에 대하여 2007년경 산업안전보건연구원이 역학조사를 하며 3라인의 수동 습식식각 공정을 방문하여 작업내용을 확인한 적이 있
었는데 , 그때 확인된 바로는 , 오퍼레이터가 직접 ' 런 ' 이라고 불리는 웨이퍼 박스를 레시 피에 따라 정해진 시간 동안 과산화수소 ( H₂O2 ) 와 BOE ( 불화수소 ( HF , 불산 ) , 불화암모
늄 , 계면활성제의 혼합물 ) 의 수조 ( Bath ) 에 담갔다가 꺼내는 작업을 되풀이하였고 , 수조 의 화학물질은 중앙공급 장치에서 공급되었으며 , 오퍼레이터는 작업복과 토시 , 안면마 스크 ( 방진마스크 ) 를 착용하였으나 방독마스크는 착용하지 않았다고 한다 ( 산업안전보건 연구원이 2012년 9월 발간한 " 반도체산업 근로자를 위한 건강관리 길잡이 " ( 갑 제10호 증 ) 에 따르면 , 수동으로 습식식각 작업을 할 경우에는 호흡용 보호구 , 보안경 , 보호장
갑 , 보호앞치마를 착용해야 한다고 한다 ) .
라 ) 삼성전자가 산업안전보건연구원에 제공한 사진5 ) 과 1라인에서 오퍼레이터로 근무한 나경순의 진술 ( 갑 제16호증의 1 ) 에 의하면 , 수동 습식식각 공정의 작업은 웨이 퍼 박스를 ' 핸들러 ' 라는 집게를 이용하여 황산보일러 1 , 2호 , QDR6 ) , 파이날 린즈라는
명칭의 각 설비 또는 수조에 차례대로 넣고 흔들고 꺼내는 작업을 한 후 , 스핀드라이 라는 설비를 이용해 말리는 과정이라고 한다 .
마 ) 자동 습식식각 공정과 건식 식각 공정에서는 오퍼레이터가 자동화 설비에 웨
이퍼 박스를 넣고 자동처리가 끝나면 이를 꺼내는 작업을 담당한다 .
4 ) 사용된 화학물질에 관한 회사 측 자료
가 ) 삼성전자는 이 사건 역학조사에서 망인이 근무하던 당시에 2라인에서 사용
된 전체 화학물질 리스트를 보관하고 있지 않다고 진술하였으며 , 다만 수동 습식식각
공정에서는 불산 6 % , 불화암모늄 58 % , 물 36 % 로 구성된 S - BOE ( 이 사건 역학조사 결
과보고서 ( 갑 제18호증 ) 에 의하면 , BOE에는 계면활성제가 포함되어 있고 , 반도체 제조 사업장에서 계면활성제로 일반적으로 사용하는 물질 중에는 Triton X - 100 ( 물질명 :
octyl phenol ethoxylate , polyoxyethylene octyl phenyl ether ) 이 있고 , 이 물질은 미량
의 에틸렌옥사이드를 포함하고 있는데 , 2라인에서 계면활성제로 Triton X - 100을 사용
하였는지는 정확히 알 수 없다고 한다 ) , 과산화수소 , 불산을 사용하였으며 , 자동 습식 식각 공정에서는 불산과 과산화수소를 사용하였다는 사실만 확인해 주었고 , 건식식각 공정에서는 일반적으로 아르곤 ( Ar ) , 헬륨 ( He ) , 질소 ( N2 ) , 사불화탄소 ( CF ) 등의 가스류가 사용된다고 진술하였다 .
나 ) 삼성전자가 1990년대 후반에 반도체 사업장 엔지니어들에게 나누어 주었던 환경수첩에는 웨이퍼 가공 공정별로 사용되는 가스와 화학물질이 적혀 있었는데 ( 그 내
용은 [ 별지 1 ] 의 기재와 같다 ) , 광학현상 공정에서는 신나 ( Thinner ) 등이 , 식각 공정에 서는 TCE와 신나 등의 유기용제와 황산 ( H2SO4 ) , 질산 ( HNO3 ) , 염화수소 ( HCL , 염산 ) 등
의 산류가 , 이온주입 공정에서는 아르신 ( AsH3 , 삼수소화 비소 ) 등이 사용된다는 것이 다 .
다 ) 삼성전자가 산업안전보건연구원의 황유미에 대한 역학조사에서 제출한 2007 년 당시 3라인의 습식 및 건식 식각공정에서 사용하고 있는 화학물질의 목록은 [ 별지 2 ] 의 기재와 같다 .
라 ) 삼성전자는 자체적으로 외부기관에 위탁하여 연 1 ~ 2회 작업환경측정을 하고
있고 , 망인이 재직한 기간 중 2라인에서 수행된 작업환경측정 결과로는 1999년 상반기 와 2001년 하반기의 자료가 있는데 ( 그 내용은 [ 별지 3 ] 의 기재와 같다 ) , 이에 따르면 측정항목의 거의 대부분이 노출 ( 허용 ) 기준의 10 % 미만으로 낮은 수준이었고 , 톨루엔의 경우만 2001년 측정 시 노출기준의 25 % 정도가 검출되었다 . 망인이 근무한 습식식각 공정에서 측정된 항목은 질산 , 불산 , 황산 , 암모니아 ( NH3 ) 였다 .
마 ) 삼성전자는 반도체 가공 라인 내에 가스 누출에 대한 감시시스템만 갖추고
있다가 망인이 퇴사한 이후인 2006년 6월경 유기화합물에 대하여도 별도의 실시간 감
지시스템을 구축하였으므로 , 망인 근무기간 중 유기화합물 감지기 동작 내역은 존재하 지 않으며 , 가스 감지기 동작내역에 관하여는 삼성전자는 그 기록이 보존되어 있지 않
다고 진술하였다 . 산업안전보건연구원이 파악한 가스 감지기 작동내역은 2004년부터 2005년까지 기간 중 8라인에서 1건 ( 실란 ( Silane ) , CVD 공정 , 30분 미만 , 누출량 최대
1ppm7 ) , 누출원인 설비불량 ) , 2007년부터 2009년까지 8라인에서 4건 ( 삼불화붕소 ( BF3 ) , 4시간 미만 , 최대 3ppm ; 수소 ( H2 ) , 30분 미만 , 최대 2 , 200ppm ; CiH3 , 30분 미만 , 최대 0 . 24ppm ; 아르신 , 5분 미만 , 최대 2 , 000ppb8 ) } 이 있었고 , 화학물질 감지기 ( ACM - 100 ) 는
2010년 7월부터 같은 해 10월까지의 기간 중 5라인에는 작동된 예가 없었고 , 8라인에
서는 에틸 락테이트 ( ethyl lactate ) 4 . 3ppm , 아세톤 3 . 7ppm이 이상값으로 감지된 적이 있었다 .
5 ) 산업안전보건연구원의 기흥사업장 3라인에 대한 노출평가 결과 ( 2007년 )
가 ) 화학물질
( 1 ) 산업안전보건연구원은 2007 . 9 . 17 . 부터 같은 달 21 . 까지 사이에 기흥사업 장 3라인에서 2007년 당시 취급하는 화학물질 ) 에 대하여 9개 베이10 ) 에서 지역시료 ( Area ) 를 채취하여 1일 6시간 이상 측정하였고 , 잔여시간도 측정시간의 노출농도와 같
다는 전제하에 측정시간 동안의 농도를 8시간 시간가중평균 노출기준 ( Time Weighted Average , TWA ) 과 비교하였다 . 다만 유기용제 측정을 하는 베이의 경우 지역시료 채취 와 함께 작업자가 수동식 시료채취기 ( Passive ) 를 착용하고 시료를 채취하여 지역시료 측정 결과와 비교하였다 . 3베이 습식식각 공정의 경우에는 수작업이 실시되는 작업시 간 동안 ' 단기간 노출농도 ' ( Short Term Exposure Limit , STEL ) 측정을 병행하였다 ( 채취 시간 15분 ) .
( 2 ) 그 결과 3라인 3베이 습식식각 공정의 세척작업의 경우 , ① 지역시료에서 불산은 0 . 0011 ~ 0 . 00480mg / m ( 노출기준 2 . 5mg / ㎥ ) 가 , 염산은 검출되지 않거나 최대
10 , 00091mg / m ( 노출기준 1 . 5mg / ㎥ ) 가 , 황산은 검출되지 않거나 최대 0 . 00255mg / ㎥ ( 노출 기준 0 . 2mg / ㎥ ) 가 , 이소프로필알코올 ( isopropyl alcohol , 이하 ' IPA ' 라 한다 ) 은
0 . 122 ~ 0 . 265ppm ( 노출기준 200ppm ) 이 측정되었다 . 단시간 노출농도를 측정한 결과 불
산은 0 . 0676 ~ 0 . 0840mg / ㎡가 , 염산은 검출되지 않거나 최대 0 . 00048mg / ㎥가 , 황산은 0 . 0018 ~ 0 . 0476mg / ㎥가 측정되었고 , IPA는 측정되지 않았다 . 불화물 ( fluoride , 노출기준 2 . 5mg / ㎡ ) 이나 벤젠 ( 노출기준 1ppm ) 은 지역시료와 수동식 시료채취기뿐만 아니라 단기 간 노출농도 측정에서도 측정되지 않았다 . 산업안전보건연구원은 단시간 측정의 전체 시료에서 벤젠을 포함한 유기용제류가 감지되지 않은 것이 채취시간이 15분으로 짧은
것에 기인한다고 판단하였다 .
( 3 ) 3라인 9개 베이 전체에 대한 물질별 측정 결과를 보면 , 벤젠 , 톨루엔 , 크실 렌 , n - 부틸아세테이트 , 2 - 에톡시에틸 아세테이트 , 2 - 메톡시에탄올 , 2 - 헵타논 , 에틸렌글 리콜 , 인산 ( H3PO4 ) 은 전체 시료에서 모두 측정되지 않았고 , 아르신은 모든 시료에서 검
출되지 않거나 흔적 ( trace ) 11 ) 만 있는 것으로 측정되었으며 불화물은 최고 노출농도가 노출기준의 약 0 . 17 % , 불산은 0 . 2 % , 염산은 0 . 06 % , 황산은 1 . 7 % , 질산은 0 . 05 % , IPA는
10 . 4 % , 포스핀 ( PH3 ) 은 2 % , 프로필렌글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트 ( PGMEA ) 는
0 . 1 % 미만으로 측정되었다 . 단기간 노출농도 측정 결과의 경우 유기용제류는 모든 시
료에서 검출되지 않았고 , 불산은 평균 0 . 092ppm으로서 지역시료의 산술평균 0 . 0041ppm과 비교하여 약 20배 높은 농도를 나타냈으며 , 불화물은 모든 시료에서 검
출되지 않았다 .
나 ) 전리방사선
( 1 ) 방사선 노출 평가는 산업안전보건연구원의 의뢰를 받은 한일원자력 주식회 사가 2007년 12월경 실시하였는데 , 가속이온주입기가 설치된 장소 및 작업자의 동선을 따라 5개 지점을 선택하여 방사선 측정장비를 설치한 후 근로자가 1일 8시간 동안 피
폭될 수 있는 최대 피폭선량을 산출하였다 . 그 결과 5개 지점 중 4개 지점에서는 자연
방사선에 의한 피폭선량 미만의 값을 보였고 , 1개 지점은 시간당 2 . 4uSv / hr로 1년에
주당 40시간씩 50주간 근무한다고 가정했을 때 연간 4 . 8mSv의 선량 ( 원자력법 시행령 [ 별표 1 ] 에서 제시된 방사선종사자의 선량한도인 ' 연간 50mSv를 넘지 아니하는 범위에
서 5년간 100mSv ' 를 초과하지 않았지만 , 일반인의 선량한도 1mSv / yr는 초과하는 수
준 ) 이 감지되었다 .
( 2 ) 방사선 노출 평가에 근거하여 가장 높은 선량을 보인 지점을 기준으로 하
루 8시간 피폭되었다고 보았을 때 방사선 노출에 의한 암 발생의 인과확률이 99 백분 위 수 ( 이는 실제 암 발생의 인과확률이 이보다 높게 나올 가능성이 1 % 미만이라는 의
미이다 ) 가 0 . 53 % 로 나왔고 하루 30분 피폭을 가정하면 0 . 03 % 로 나타났다 . 하루 8시간 피폭되었을 때 50 백분위 수는 0 . 18 % 로 나타났다 .
6 ) 산업안전보건연구원의 전체 반도체 사업장 근로자에 대한 역학조사 결과 ( 2008
년 )
산업안전보건연구원은 2008 . 1 . 1 . 부터 같은 해 12 . 31 . 까지 사이에 국내 반도체
제조사 6개사 및 그 협력업체에서 근무하였던 전 · 현직 근로자들을 대상으로 백혈병을 포함한 림프 조혈계 암 발병위험이 일반 국민보다 높은지 여부에 관한 역학조사를 실 시하였다 . 이 중 백혈병에 관한 조사결과에 의하면 , 남성의 경우 백혈병 사망은 일반
인구보다 낮은 편이고 , 백혈병 발생은 비슷한 수준으로 나타났고 , 여성의 경우 백혈병
사망과 발생이 모두 일반 인구와 비슷한 수준으로 나타났는데 , 이 모두는 유의미한 통
계적 수치는 아니었다 .
7 ) 서울대학교 산학협력단의 자문 결과 ( 2009년 )
삼성전자 등 국내 반도체 제조업체들은 서울대학교 산학협력단에 반도체 사업장 의 위험성 평가에 관한 자문을 의뢰하였고 , 이에 산학협력단은 2009년 6월경부터 약 5 개월 동안 반도체 사업장의 위험성을 조사하였다 . 그 중 삼성전자의 사업장에 대하여 는 웨이퍼 가공라인인 기흥사업장의 5라인과 칩 조립라인인 온양사업장의 1라인을 평
가대상 작업장으로 선정한 후 , 화학물질 사용현황 , 삼성전자가 최근 2년간 실시한 작업 환경측정 결과 및 최근 6개월간의 가스 감지기 관리현황 등을 토대로 위 라인에 대한 위험성을 평가하였고 , 광학현상 공정에 사용되는 감광액 ( 포토레지스트 ) 의 성분을 직접 분석하였다 . 기흥사업장 5라인에 관한 자문의견서의 주요 내용은 아래와 같다 .
가 ) 5라인의 특성
기흥사업장 5라인은 다른 라인에 비해 오래된 공정이며 , 현재까지 수동으로 운영되고 있고 , 현장의 근로자 밀도가 높다 .
나 ) 5라인에서 사용되고 있는 화학물질
( 1 ) 총 99종의 화학제품이 사용되고 있는데 이 중 단일물질은 70종이고 나머 지 29종은 여러 물질이 혼합된 제품이다 . 제품 공급자가 제공하는 성분정보가 맞는지 를 삼성전자가 확인하는 제품은 없었으며 , 화학물질 구성성분에 대한 정보는 제품 공
급자의 자료에 의존하고 있다 .
( 2 ) 병의 형태로 사용되는 제품이 65종 , 라인을 이용한 중앙공급방식으로 사용 되는 제품이 32종 , 드럼 형태로 사용되는 제품이 2종인데 , 중앙공급방식은 배관 연결 부위에서 가스가 누출되는 경우에 , 병이나 캔 등을 이용한 내부 공급방식은 용기의 개
폐 , 소량으로 나누는 과정과 이들 제품의 일부를 공장 내부에 보관하는 과정에서 적절 히 관리되지 않는 경우에 화학물질이 작업장 내로 유입될 가능성이 높다 .
( 3 ) 위 99종의 화학제품의 성분을 실제 확인한 결과 단일 화학물질은 총 83종 인데 그 중 성분이 미확인된 물질은 10종이며 , 이 10종의 물질들은 모두 영업비밀로
되어 있는 물질이다 . 위 83종의 단일화학물질 중 24종만이 자체 작업환경측정을 통하
여 모니터링되고 있었는데 , 측정되지 않고 있는 물질 중 일부는 노출 정도에 따라 건
강장해를 유발할 수 있는 것도 있다 .
다 ) 작업환경측정 결과에 대한 분석 및 평가
( 1 ) 측정방법
산업안전보건법상 측정대상물질 189종을 대상으로 상 / 하반기 일정한 측정시 기를 정하여 지정 측정기관에 위탁하여 실시하고 있었으며 , 각 공정 , 단위작업장소별 1
회씩 , 1일 6시간 측정하여 8시간 TWA 농도로 환산하였고 , 측정시간은 교대근무 시간 과는 상관없이 08 ~ 17시 사이로 통일되어 있었다 . 한편 , 삼성전자는 현행 노출기준의 20 % 수준을 사내 기준으로 정하고 있다 .
( 2 ) 분석
2007년도 작업환경측정 결과 현장 오퍼레이터와 엔지니어에 대한 전체 측
정 농도의 분포를 노출기준 대비 노출농도의 비율 ( 노출지수 = 노출농도 노출기준 ) 로 환
산하여 공정별 측정 물질의 노출지수 최대값의 분포를 분석한 결과 , 측정건수가 많은 물질은 IPA ( 446건 ) , 암모니아 ( 243건 ) , 과산화수소 ( 213건 ) , 황산 ( 184건 ) 순으로 나타났으 며 , 노출지수가 가장 높게 나타난 물질은 이온주입 공정에서 측정한 과산화수소였고
수치는 29 % 였다 .
( 3 ) 평가
( 가 ) 측정방법의 제한성 : 현재 측정 방법은 각 화학물질이 가진 독성과 노출 기준 , 발생패턴 등을 고려하지 않고 모두 6시간 이상 측정 후 8시간 TWA로 평가하고
있는 문제점이 있으며 , 이는 특히 세정작업과 같은 정비작업 ( 협력업체가 수행함 ) 을 대 상으로도 단위 작업 중심의 단시간 노출평가가 수행되지 못하고 모두 일괄적으로 8시 간 TWA로 평가되고 있어 실제 노출 현황을 파악하는 데 한계가 있다 .
( ) 평가시기의 제한성 : 반도체 사업장에서는 작업장 내의 다양한 장비를 현
장 내에서 개방하고 점검 및 정비하는 작업이 규칙적 혹은 불규칙적으로 실시되므로 이러한 작업 시 장비 내 오염물질이 공정 내로 유입될 가능성이 있어 작업자의 노출에 큰 영향을 줄 수 있는데 , 현재 측정방식은 상 · 하반기 일정한 측정시기를 정하여 해당
기간 동안 각 공정 , 단위 작업장소별 1회 측정하는 방법을 활용하고 있으므로 작업환
경 측정 결과에는 한계가 있다 .
라 ) 가스 감지기 경보발생현황
5라인의 확산 공정 등 6개 공정에는 라인 장비에 323개 , 장비 외부 ( 작업장 ) 에
28개의 가스 감지기가 설치되어 있는데 , 2009년 2월부터 같은 해 7월까지 가스 감지기 경보가 총 46회 울렸고 , 감지기 경보발생 현황은 [ 별지 4 ] 의 기재와 같다 . 세부내역을 보면 , PM ( Preventive Maintenance : 설비의 유지보수를 말한다 ) 작업 시 SOP ( Standard Operating Procedure : 표준작업절차 ) 를 준수하면서 작업한 경우 잔류가스 영향으로 경
보 발생 25건 ( 54 % ) , 오동작 11건 ( 24 % ) , SOP 준수하지 않고 PM 작업 3건 , 정상적으로 공장이 가동되고 있는 상황에서 누출 3건 , 원인 미파악 4건 등이었다 . 이 중에서 2009 .
7 . 20 . 브롬화수소 ( HBr ) 가 누출되었음을 이유로 발령된 경보의 경우 위 가스가 고농도 로 5 , 729초간 실제 누출되어 매우 위험한 상황이었음에도 현장 근로자의 대피 등의 적
절한 조치가 없었다 .
마 ) 감광액 ( 포토레지스트 ) 분석 결과
5라인의 감광 공정에서 사용하고 있는 40 ~ 50여 종의 감광제 벌크 ( 액체용액 ) 중 6개를 임의로 선정해서 벤젠 등 일부 화학물질의 함유량을 분석한 결과는 아래 표 와 같다 . 그러나 그 함유량은 극히 미량이고 감광 공정 챔버에 밀폐형 국소배기장치가 설치되어 있어서 정상적으로 운영되는 동안에 챔버 밖 공기 중 농도는 검출한계 미만
일 가능성이 높다 .
PR 벌크에서 PR 벌크 시료
분석한 물질 SPSL 402 SL 4100A SEPR 402 SPUV - 5604 SMDT - 750 JSAL - 2726
벤젠 , ppm 8 . 91 2 . 18 2 . 34 7 . 85 0 . 15 0 . 08
톨루엔 , ppm 151 . 84 4 . 1 
4 . 48 0 . 53 0 . 12 0 . 19
바 ) 환기 부분
( 1 ) 웨이퍼 가공 공정의 경우 외부 공기가 10 ~ 20 % 의 비율로 유입되어 재순환 공기와 함께 작업공간으로 공급된다 . 이러한 외부 공기 유입률에서는 생산설비를 정비 하면서 오염물질이 유출되면 오염물질이 웨이퍼 가공 공정이 진행되는 라인 내부의 공
간과 플레넘 ( Plenum ) 12 ) 을 순환하면서 아주 낮은 농도의 오염을 일으켜 근로자 건강에
악영향을 줄 수 있다 . 이러한 낮은 농도는 가스 감지기에 의해 감지되기 어렵다 .
( 2 ) 공기정화정치 배출구에서 배출되는 공기는 100 % 깨끗한 공기라고 볼 수
없다 . 환경부에서 정한 대기오염 배출원 배출농도만 만족하면 되기 때문에 실내공기오 . 염기준보다는 더 오염된 공기가 배출되는 경우가 대부분이다 . 그런데 주변 기상상태에
따라서 배출된 기류가 공기유입구로 들어올 수 있고 , 한 번씩 이러한 배출가스가 공기 유입구로 흡입되어 fab area에서 소동이 일어난다는 얘기를 들은 바 있다 .
사 ) 기흥 사업장 소그룹 심층 인터뷰 결과
과거의 작업환경에 관한 내용은 다음과 같다 .
○ 최근에 순찰이 강화되어 ( 보호구를 ) 옛날보다 잘 착용해요 .
○ 안전을 챙기는 것이 회사 평판에 영향을 준다는 의식이 최근 생긴 듯 .
○ 과거에는 화학물질 , 근골 신경 쓰지 않았음 .
○ 200mm 때에는 화학물질 떨어지면 그냥 닦음 . 요즘은 PH 검사 후 처리 .
ㅇ 2000년 전에는 환경도 열악하고 안전을 지키는 사람도 적었음 .
○ 요즈음은 인터락과 정비 표시 등이 잘되어 있다 . 예전에는 그렇지 않았다 .
8 ) 산업안전보건연구원의 " 반도체 제조 사업장에 종사하는 근로자의 작업환경 및
유해요인 노출특성 연구 " ( 2012년 )
국내 반도체 제조사업장 3개사 5개 웨이퍼 가공라인을 대상으로 수행된 연구로 ,
보고서에서 ' B사 ' 로 언급된 사업장이 삼성전자인 것으로 보이는데 , 연구대상이 된 생산 라인은 8인치 웨이퍼 가공라인으로 망인이 근무했던 2라인과는 차이가 있다 .
가 ) 화학물질 사용현황 및 2차적으로 발생 가능한 물질
산업안전보건연구원은 각 사업장에 공정별로 사용하고 있는 물질에 대한 구성
성분 및 함량 등이 포함된 현황표를 작성하도록 요청하여 화학물질 사용현황을 파악하 였고 , 열분해산물 평가실험을 통해 2차적으로 발생 가능한 물질을 파악하였는데 , 주요 내용은 다음과 같다 .
( 1 ) 광학현상 공정
광학현상 공정에서 일반적으로 사용되는 감광액 ( 포토레지스트 ) 은 페놀 ( 크레
졸 ) - 포름알데히드 수지나 폴리스티렌수지 등의 수지 성분과 케톤류 , 아세테이트류 , 크
실렌 , 에틸벤젠 등의 용매 성분 , 영업비밀로 되어 있는 감광성 성분 등이 혼합된 혼합
물로 이루어져 있다 . 2007년에 백혈병 환자가 발생한 웨이퍼 가공공정 ( 삼성전자를 지
칭하는 것으로 보인다 ) 에서는 페놀 ( 크레졸 ) - 포름알데히드계의 노보락수지 ( Novolak
Resin ) 가 주로 사용되었다 .
광학현상 공정에서는 감광액에 빛에너지를 조사하여 반도체 웨이퍼 상에 회
로패턴을 구성하는 노광 과정이 있는데 , 노보락수지는 빛에 의해 분해될 경우 방향족 화합물이 생성될 수 있다는 기존 연구결과가 있었고 , 실제 노보락수지가 함유된 감광 액에 대하여 열분해 실험을 한 결과 , 벤젠 , 톨루엔 , 크실렌 , 페놀 , 크레졸 등의 물질이 발생되는 것이 확인되었다 . 방향족 구조를 가지고 있는 감광액의 특성상 열분해 물질 의 대부분이 방향족 화합물이었다 .
( 2 ) 식각 공정
광학현상 공정에서 사용된 감광액 성분은 식각공정에서 감광액 제거제를 이
용하여 1차적으로 제거된 후 습식식각 또는 건식식각 과정을 통해 최종 제거되는데 ,
습식식각의 경우는 강산과 강염기를 이용하기 때문에 감광액 ( 포토레지스트 ) 성분이 분
해되면서 휘발성 유기물질과 각종 부산물이 발생될 수 있고 , 건식 식각의 경우도 가스 상 물질을 이온화하여 식각될 표면과의 물리적 충돌 및 반응의 과정을 거치기 때문에
가스상 물질과 각종 부산물이 발생할 수 있다 .
( 3 ) 이온주입 공정
아르신 , 삼불화붕소 , 포스핀 등이 대표적으로 사용된다 . 아르신은 분해 온도 인 300℃까지 가열되거나 빛에 노출될 경우 비소로 분해되는데 , 아르신이 이온주입장
비 내에서 에너지를 받아 이온화 과정으로 거치면 비소 이온 , 중성의 비소 등 다양한 형태의 물질이 발생될 수 있다 .
나 ) 유해물질 노출농도 평가결과
근로자 작업위치의 호흡기 영역에서 시료를 채취하였고 , 비교를 위해 가공라
인의 외부의 공기유입구에서도 시료를 채취하였고 , 이를 분석한 결과는 다음과 같다 .
( 1 ) 휘발성 유기화합물 ( 포름알데히드 제외 )
4개의 웨이퍼 가공라인에서 아세톤 , 벤젠 , IPA , PGME , 톨루엔 , 크실렌 등
10여 종의 휘발성 유기화합물이 검출되었다 . 그러나 아세톤 , IPA , PGME , 크실렌을 제 외하고는 0 . 1ppm 이상 검출된 물질은 없었으며 , 아세톤 , IPA , PGME , 크실렌의 경우도 노출기준의 1 / 100 이상 검출된 시료는 없었다 . B사의 경우 가공라인과 외부 공기 유입 구 모두에서 벤젠이 검출되지 않았다 .
( 2 ) 포름알데히드
노보락수지 ( 페놀 - 포름알데히드계 수지 ) 등을 사용하는 광학현상 공정에서는
자외선 등 빛에너지가 가해지는 노광과정에서 2차 생성물질로 포름알데히드가 발생될 수 있는데 , B사의 공기 중 포름알데히드 농도수준은 0 . 0018ppm ( 노출기준 0 . 5ppm ) 으로 , 경기지역의 2009년 8월 대기 중 농도인 0 . 0010 ~ 0 . 0110ppm과 큰 차이가 없었다 .
( 3 ) 무기산류
검사결과는 아래 표와 같고 , 모든 항목에서 노출기준의 1 / 100 이하로 낮게
나타났다 .
( 4 ) 아르신 , 비소 및 그 무기화합물
정상작업 시에는 B사를 포함한 전체 웨이퍼 가공공정에서 아르신이 검출되 지 않았다 . 이온소스 등을 교체하는 PM 작업 시의 아르신 노출농도는 2차례 평가하였 는데 , 1차 평가에선 아르신이 검출되지 않았으나 2차 평가에선 아래 표에서 보듯이 TWA 기준13 ) 으로 3 . 23ppb가 검출되었으나 ( PM 작업자 기준 ) 노출기준인 5ppb를 초과
하지는 않았다 . 비소 및 그 무기화합물 ( 아르신 제외 ) 경우 TWA 기준으로 0 . 0085mg / m
가 검출되었으나 ( PM 작업자 기준 ) 노출기준인 0 . 01mg / ㎥를 밑돌았다 .
9 ) 급성 골수성 백혈병 원인 등에 대한 의학적 견해
가 ) 원인
급성 골수성 백혈병의 발병원인으로는 유전 , 방사선 , 화학물질 , 약물 ( 항암제 ) , 바이러스 등이 알려져 있고 , 백혈병의 직업환경적 위험요인으로는 벤젠 , 전리방사선 , 포름알데히드 , 1 , 3 - 부타디엔 , 에틸렌옥사이드 , 고무제품 생산업 정도가 인정되고 있다 .
한편 , 흡연도 백혈병의 발생 위험을 증가시키는 것으로 알려져 있는데 , 1일 32개피를
피우는 흡연자는 매일 1 . 8mg의 벤젠을 섭취하는데 이는 비흡연자보다 10배 정도 많은 양이다 .
현행 산업재해보상보험법 시행령 14 ) 제34조 제3항 [ 별표 3 ] 은 다음의 경우를 업무상 질병에 해당하는 직업성 암으로 인정하고 있다 .
o 1ppm 이상 농도의 벤젠에 10년 이상 노출되어 발생한 백혈병 , 다발성 골
수종 ( 다만 , 노출 기간이 10년 미만이더라도 누적 노출량이 10ppm / 년 이상
이거나 과거에 노출되었던 기록이 불분명하여 현재의 노출농도를 기준으로
10년 이상 누적 노출량이 1ppm / 년 이상이면 업무상 질병으로 본다 . )
○ 포름알데히드에 노출되어 발생한 백혈병 또는 비인두암
ㅇ 1 , 3 - 부타디엔에 노출되어 발생한 백혈병
○ 산화에틸렌 ( 에틸렌옥사이드 ) 에 노출되어 발생한 림프구성 백혈병
○ 엑스 ( X ) 선 또는 감마 ( Y ) 선 등의 전리방사선에 노출되어 발생한 침샘암 , 식
도암 , 위암 , 대장암 , 폐암 , 뼈암 , 피부의 기저세포암 , 유방암 , 신장암 , 방광
암 , 뇌 및 중추신경계암 , 갑상선암 , 급성 림프구성 백혈병 및 급성 · 만성
골수성 백혈병
나 ) 잠복기
벤젠의 최초 노출 이후 백혈병 발생까지의 잠재기는 다른 고형암의 잠재기에
비해 빠른 것으로 알려져 있으며 , 연구자에 따라 변이의 폭은 크지만 평균 5 ~ 15년으로 보고 있다 . 전리방사선에 의한 백혈병은 주로 일본 원폭 피해 생존자와 방사선 치료를 받는 환자들에 대하여 연구되었는데 전리방사선에 노출된 지 5 ~ 7년 후에 골수성 백혈 병의 발생률이 증가하는 것이 관찰되었다 .
10 ) 화학물질의 특성 및 위험성
가 ) 삼성전자의 웨이퍼 가공 공정에서 사용 또는 검출되었거나 그러한 가능성이 있는 것으로 앞에서 언급된 화학물질 중 「 화학물질 및 물리적 인자의 노출기준 」 ( 고용 노동부고시 제2013 - 38호 ) 에서 유해물질로 분류되어 노출기준이 설정된 물질은 [ 별지 5 ] 의 기재와 같다 .
나 ) 벤젠은 물리적 상태는 액체이나 휘발성이 매우 높아 ( 100 % ) 호흡기와 피부로
쉽게 흡수된다 .
다 ) TCE는 현재 사용되지 않는 물질로 비호지킨림프종 , 간암의 위험을 증가시키 는 것으로 알려져 있고 국제암연구소 ( IARC ) 에 의해 그룹2A15 ) 의 발암추정물질로 분류 되어 있으며 , 비소와 그 무기화합물 ( 아르신 제외 ) 은 폐암 , 피부암 등을 일으키는 물질
로 알려져 있고 국제암연구소에 의해 그룹1의 발암물질로 지정되어 있다 .
라 ) 108개의 국내 신나 제품에 대한 구성성분 연구결과 ( 1995년 ) 의하면 , 신나에 서 가장 많은 비중을 차지하는 성분은 톨루엔 ( 11 . 2 ~ 50 . 23 % ) , 크실렌 ( 8 . 8 ~ 27 . 8 % ) , 메틸 이소부틸케톤 ( 36 . 36 % 이하 ) , 에틸벤젠 ( 1 . 32 ~ 16 . 10 % ) 순이었고 , 108개 중 8개 ( 7 . 4 % ) 제
품에서 벤젠이 검출되었고 , 벤젠 함유량은 0 . 1 ~ 56 . 7 % 를 차지하였다 .
[ 인정 사실 ] 다툼 없는 사실 , 갑 제3호증의 1 ~ 4 , 갑 제4호증의 2 , 갑 제5호증의 2 , 3 ,
갑 제6호증의 1 , 갑 제10 , 14 , 15 , 17 , 18 , 21 , 24호증 , 갑 제19 , 22호증의 각1 , 2 , 을
제2 , 7 , 8호증 , 을 제9호증의 1 ~ 3의 각 기재 , 변론 전체의 취지
다 . 판단
1 ) 산업재해보상보험법에서 말하는 ' 업무상 재해 ' 라 함은 근로자가 업무 수행 중
그 업무에 기인하여 발생한 재해를 말하는 것이므로 , 업무와 재해발생 사이에 상당인 과관계가 있어야 하고 이 경우 근로자의 업무와 질병 또는 위 질병에 따른 사망 간의 인과관계에 관하여는 이를 주장하는 측에서 입증하여야 하지만 , 그 인과관계는 반드시
의학적 , 자연과학적으로 명백히 입증하여야만 하는 것은 아니고 , 근로자의 취업 당시 건강상태 , 질병의 원인 , 작업장에 발병원인물질이 있었는지 여부 , 발병원인 물질이 있는 작업장에서의 근무기간 등 제반 사정을 고려할 때 업무와 질병 또는 그에 따른 사망 사이에 상당인과관계가 있다고 추단되는 경우에도 입증이 있다고 보아야 한다 ( 대법원
2004 . 4 . 9 . 선고 2003두12530 판결 참조 ) .
2 ) 앞서 든 사실 및 이로부터 알 수 있는 아래와 같은 각 사정에 더하여 , 현대의 학으로도 백혈병의 원인이 명확하게 규명되지 못하고 있는 현실과 작업장에서 발생할
수 있는 안전보건상의 위험을 사용자나 근로자 어느 일방에게만 전가하는 것이 아니라 공적 ( 公的 ) 보험을 통해 산업과 사회 전체가 이를 분담토록 하는 산업재해보상보험 제
도의 목적 등을 고려해 보면 , 비록 망인의 사망원인인 급성 골수성 백혈병의 발병 경
로가 의학적으로 명백히 밝혀지지 않았다고 하더라도 망인이 기흥사업장 2라인에서 근
무하는 동안 백혈병의 발암물질을 포함한 각종 유해화학물질에 지속적으로 노출되어 급성 골수성 백혈병이 발병하였거나 적어도 그 발병이 촉진되었다고 추단할 수 있으므 로 망인에게 발병한 급성 골수성 백혈병과 그 업무와의 사이에는 상당인과관계가 있다 . 고 봄이 상당하다 .
가 ) ① 삼성전자가 2009년 당시 사용하던 6종류의 감광액 모두에서 벤젠이 검출 되었고 , 그 수치는 최대 8 . 91ppm에 이르렀던 점 , ② 삼성전자가 사용한 감광액에 들어 가는 노보락수지의 경우 광학현상 공정에서 자외선과 반응하거나 습식식각 공정에서 산류와 만나 2차적으로 벤젠이나 포름알데히드 등의 발암물질을 생성할 수 있으며 , 웨
이퍼에 도포된 감광액은 망인이 담당했던 식각 공정에서 최종적으로 제거되는 점 , ③
삼성전자가 환경수첩을 제작한 1990년대 말 기흥사업장의 식각공정에서 사용된 것으 로 보이는 TCE는 현재 사용되지 않는 물질로 백혈병과 유사 계통인 림프종 등의 유발 의심인자로 보고되고 있는 점 , ④ 그 밖에도 식각공정에서 사용된 신나와 BOE에 발암 물질인 벤젠이나 에틸렌옥사이드 등이 사용되었을 가능성을 배제할 수 없는 점 등을 종합해 보면 , 망인이 근무할 당시 2라인에서는 현재 의학적으로 백혈병의 발암물질로 인정되고 있거나 상당한 의심을 받고 있는 물질들이 사용되었거나 또는 생성되었을 높
은 개연성이 존재한다 .
나 ) 회사가 연 1 ~ 2회 실시하는 작업환경측정 결과나 산업안전보건연구원의 시료
채취 결과 라인 내에서 벤젠이나 포름알데히드와 같은 발암성 물질이 거의 검출되지
않았거나 일반 대기 수준 정도의 양만이 검출된 사실은 앞서 본 바와 같으나 , 이러한 측정 결과는 대부분 화학물질의 유해성에 대한 인식이 높아지고 작업환경 관리가 강화 된 최근의 데이터일 뿐만 아니라 , 이러한 측정결과는 PM 작업을 하는 경우나 정전 , 설
비고장 , 사고 등 비정상적인 상태에서 화학물질이 유출될 가능성을 반영하지 못하고
있고 , 실제 2007년 이후에도 기흥사업장의 5라인 , 8라인 등에서 종종 가스 감지기나
화학물질 감지기가 작동한 바 있는데 , 2라인은 이보다 시설이 낡아 누출이 더 빈번했 을 가능성이 높고 , 산업안전보건연구원의 2012년 연구결과에서도 PM 작업 시 측정한 유해가스의 농도가 일반 작업 시의 농도보다 매우 높았던 점이 드러나 , 위와 같은 일
회성의 측정결과는 일상적이고 계속적인 작업과정 중 발생하는 화학물질의 유출 여부
를 판정할 자료로 사용하기에 미흡하므로 , 이러한 측정결과만으로 업무관련성을 부인 할 수는 없다 . 오히려 망인은 수동설비로 습식식각 작업을 하면서 화학물질이 있는 수
조에 웨이퍼를 담갔다가 꺼내는 작업을 수행했고 , 최종 세척이 이루어지기까지 중간중 간에 감광액이나 황산 , BOE 등이 완전히 제거되지 않은 상태의 웨이퍼 박스를 직접 옮겨야 했으며 , 그 과정에서 호흡용 보호구와 같은 충분한 보호장비를 착용하지 않았
고 , 망인의 근무기간은 4년 10개월 정도로 길었던 점 등에 비추어 , 망인은 삼성전자가
측정한 작업환경측정 결과나 산업안전보건연구원이 수행한 조사결과보다 더 많은 양의 유해화학물질에 노출되었을 것으로 판단된다 .
다 ) 앞서 본 벤젠 , 포름알데히드 외에도 삼성전자가 웨이퍼 가공공정에 사용하였 거나 가공과정에서 부차적으로 생성되었거나 또는 라인에서 측정된 화학물질 중 과산 화수소 , 2 - 메톡시에탄올 , 불산 ( 불화수소 ) , 비소 및 그 무기화합물 , 아르신 ( 삼수소화 비
소 ) , 암모니아 , 염화수소 ( 염산 ) , IPA , 인산 , 질산 , 크레졸 , 크실렌 , 톨루엔 , 페놀 , 포스핀 , 황산 등은 미량이기는 하지만 인체에 유해하여 노출기준이 설정된 물질들이고 , 특히 이 중 과산화수소 , 비소 및 그 무기화합물 , 황산은 발암물질로 , 2 - 메톡시에탄올 , 톨루
엔과 페놀은 생식독성물질로 분류되고 있으며 , 망인이 담당하지 않은 공정에서 사용되 거나 감지된 물질이라도 공기에 섞여 환기시스템을 통해 재순환하며 망인에게도 영향
을 미칠 수 있으므로 , 망인이 이러한 유해물질에 복합적으로 장기간 노출될 경우 앞서 본 백혈병 발암물질 또는 발암의심물질과 상승작용을 일으켜 백혈병의 발병 가능성을 높일 수 있다 .
라 ) 망인의 발암물질에의 노출 여부 및 그 정도를 더 이상 규명할 수 없게 된
것은 , 일정 기간의 잠복기를 가지는 백혈병의 특성과 현대의학의 한계와 더불어 , 망인 의 근무 당시 사용된 화학물질에 대한 자료를 제대로 보존하지 않았고 또한 일부 자료 에 대해서는 영업비밀이라는 이유로 이를 공개하지 않은 삼성전자에게도 일부 그 원인 이 있는데 , 이처럼 근로자에게 책임 없는 사유로 인하여 유해물질에 대한 파악이 어렵 게 된 상황에서 업무기인성에 대한 엄격한 증명책임을 근로자 측에게 부담시키는 것은 맞지 않다 .
마 ) 망인의 가족 중에는 혈액질환이나 암질환을 앓았던 사람이 없는 점 , 망인은
입사 당시 건강에 아무런 이상이 없었고 , 술 , 담배를 하지 않았던 점 , 사망 당시 망인 의 나이가 불과 29세였던 점 등에 비추어 망인에게 백혈병 발병과 관련된 유전이나 지
병 등 비직업적 발병요인은 없었던 것으로 보이고 , 삼성전자는 망인의 첫 직장이며 , 백
혈병의 잠복기를 고려했을 때 삼성전자 퇴직 후의 요소가 원인이 되어 백혈병이 발병 했을 것이라고 보이지도 않는다 .
3 . 결 론
그렇다면 망인이 업무상 질병에 의해 사망한 것이 아니라고 판단한 이 사건 처분은 위법하고 , 그 취소를 구하는 원고의 청구는 이유 있으므로 이를 인용하기로 하여 주문 과 같이 판결한다 .
판사
재판장 판사 이승택
판사 이병희
판사 김태훈
주석
1 ) 백혈병의 원인 요인 ( 벤젠 , 전리방사선 , 포름알데히드 , 1 , 3 - 부타디엔 , 에틸렌옥사이드 ) 에 노출수준이 자연노출 수
준 정도로서 역학적 연구결과에서도 직업적 노출이 있었다고 보기 어렵다는 의견 ( 6명 ) 및 백혈병의 원인 요인에
노출된 정확한 수준을 알 수는 없지만 높지는 않아 보인다는 의견 ( 1명 ) 이다 .
2 ) 젊은 나이에 5년을 근무하였는데 과거의 작업환경을 현재 정확히 판단하기 어려우므로 질병과 업무의 관련성을
완전히 배제하거나 인정하기 어렵다는 의견이다 .
3 ) 웨이퍼란 고순도로 정제된 실리콘 용액을 주물에 넣어 회전시키면서 실리콘 원기둥을 만든 후 이것을 지름
5 ~ 10cm , 두께 수백 um로 얇게 절단하고 한쪽 면을 거울같이 연마하여 만든 원판을 말한다 .
4 ) 줄여서 포토 공정이라고도 한다 .
5 ) 이 사건 역학조사 결과보고서 ( 갑 제18호증 ) 10면에 첨부된 사진이다 .
6 ) QDR ( Quick Dump and Rinse ) : DI water ( 이온이 없는 순수한 물 ) 를 이용한 세정조를 의미한다 .
7 ) 100만분율로 , 어떤 양이 전체의 100만분의 몇을 차지하는가를 나타낼 때 사용된다 .
8 ) 10억분율로 , ppm의 1 , 000분의 1에 해당된다 .
19 ) 측정대상물질은 산류 ( 황산 , 불산 , 염산 , 질산 , 인산 ) , 유기용제류 ( 이소프로필알콜 , 톨루엔 , 크실렌 등 ) , 포스핀 , 2
헵타논 ( 2 - Heptanone ) , 에틸글리콜 ( Etylene Glycol ) , 벤젠 , 아르신 , 불화물 ( fluoride ) , n - 부틸아세테이트 ( n - Butyl
Acetate ) , 셀로솔브 ( Cellosolve ) 류 , 프로필렌글리콜 모노에텔 에테르 아세테이트 ( Propylene glycol monomthyl
ether acetate ) 017 .
10 ) 반도체 제조 공정 중 하나의 공정을 진행하기 위해 마련된 작업장을 베이 ( Bay ) 라고 하고 , 긴 복도를 중심으로
베이들이 좌우에 배치되어 있는 작업공간 전체를 라인이라고 한다 .
11 ) 흔적 ( trace ) 이란 검출은 되지만 정확한 양을 측정하는 것이 의미 없는 경우에 사용하는 용어로 정량한계 미만
또는 검출한계 미만을 의미한다 .
12 ) 반도체 생산 설비를 가동하기 위해 필요한 배관과 부대시설을 두는 공간으로 라인 내부의 공간 아래층에 위치
하고 있다 .
13 ) PM 작업은 30분간 수행하였고 나머지 시간 동인에는 다른 작업을 실시하지 않았으므로 , PM 작업을 수행한 30
분 동안의 농도는 평균농도의 수 배 이상이 될 것이라고 한다 . 비소 및 무기화합물에 대한 측정결과도 마찬가지
이다 .
14 ) 이 사건 처분 이후인 2013 . 7 . 1 . 부터 시행된 것이나 , 가장 최근까지의 의학적 연구결과를 반영한 것으로 볼 수
있다 .
15 ) 국제암연구소의 발암성 물질 분류방법으로 , 분류기준은 다음과 같다 .
별지
[ 별지 1 ]
환경수첩
○ 공정별 GAS
○ 공정별 화학물질
[ 별지 2 ]
2007년 당시 3라인 습식 및 건식 식각공정에서 사용된 화학물질
[ 별지 3 ]
2라인 작업환경측정 결과 ( 1999년 , 2001년 )
[ 별지 4 ]
가스 감지기 경보발생 내역
[ 표 13 ] 최근 6개월간 5라인의 검지기 경보 발생 
현황 ( 물질명별 )
[ 별지 5 ]
유해물질의 노출기준
주 : 1 . Skin 표시 물질은 점막과 눈 그리고 경피로 흡수되어 전신 영향을 일으킬 수 있는 물질을 말함 ( 피부자극성을 뜻하는 것이 아님 )
2 . 발암성 정보물질의 표기는 「 화학물질의 분류표시 및 물질안전보건자료에 관한 기준 」 에 따라 다음과 같이 표기함
가 . 1A : 사람에게 충분한 발암성 증거가 있는 물질
나 . 1B : 시험동물에서 발암성 증거가 충분히 있거나 , 시험동물과 사람 모두에서 제한된 발암성 증거가 있는 물질
다 . 2 : 사람이나 동물에서 제한된 증거가 있지만 , 구분1로 분류하기에는 증거가 충분하지 않은 물질
3 . 생식세포 변이원성 정보물질의 표기는 「 화학물질의 분류표시 및 물질안전보건자료에 관한 기준 」 에 따라 다음과 같이 표기함
가 . 1A : 사람에게서의 역학조사 연구결과 양성의 증거가 있는 물질
나 . 1B : 다음 어느 하나에 해당하는 물질
① 포유류를 이용한 생체내 ( in vivo ) 유전성 생식세포 변이원성 시험에서 양성
② 포유류를 이용한 생체내 ( in vivo ) 체세포 변이원성 시험에서 양성이고 , 생식세포에 돌연변이를 일으킬 수 있다는 증거가 있음
③ 노출된 사람의 정자 세포에서 이수체 발생빈도의 증가와 같이 사람의 생식세포 변이원성 시험에서 양성
다 . 2 : 다음 어느 하나에 해당되어 생식세포에 유전성 돌연변이를 일으킬 가능성이 있는 물질
① 포유류를 이용한 생체내 ( in vivo ) 체세포 변이원성 시험에서 양성
② 기타 시험동물을 이용한 생체내 ( in vivo ) 체세포 유전독성 시험에서 양성이고 , 시험관내 ( in vitro ) 변이원성 시험에서 추가로 입
증된 경우
③ 포유류 세포를 이용한 변이원성시험에서 양성이며 , 알려진 생식세포 변이원성 물질과 화학적 구조활성 관계를 가지는 경우
4 . 생식독성 정보물질의 표기는 「 화학물질의 분류표시 및 물질안전보건자료에 관한 기준에 따라 다음과 같이 표기함
가 . 1A : 사람에게 성적기능 , 생식능력이나 발육에 악영향을 주는 것으로 판단할 정도의 사람에서의 증거가 있는 물질
나 . 1B : 사람에게 성적기능 , 생식능력이나 발육에 악영향을 주는 것으로 추정할 정도의 동물시험 증거가 있는 물질
다 . 2 : 사람에게 성적기능 , 생식능력이나 발육에 악영향을 주는 것으로 의심할 정도의 사람 또는 동물시험 증거가 있는 물질
라 . 수유독성 : 다음 어느 하나에 해당하는 물질
① 흡수 , 대사 , 분포 및 배설에 대한 연구에서 , 해당 물질이 잠재적으로 유독한 수준으로 모유에 존재할 가능성을 보임
② 동물에 대한 1세대 또는 2세대 연구결과에서 , 모유를 통해 전이되어 자손에게 유해영향을 주거나 , 모유의 질에 유해영향을 준다 .
는 명확한 증거가 있음
③ 수유기간 동안 아기에게 유해성을 유발한다는 사람에 대한 증거가 있음
( 이하 생략 ) . 끝 .