1. 원고의 청구를 기각한다.

2. 소송비용은 원고가 부담한다.

1. 기초적 사실관계

가. 특허발명 1) 특허권자: 원고 2) 명칭: 텅스텐 에칭억제제를 포함하는 연마 조성물 3) 우선권주장일/ 출원일/ 등록일/ 등록번호: 1997. 7. 28. 및 1998. 5. 29./ 1998. 7. 28./ 2006. 7. 21./ 제606315호 4) 청구범위(아래 ‘심결의 경위’에서 보는 원고의 정정청구에 의한 것) 【청구항 1】텅스텐을 에칭할 수 있는 화합물(이하 ‘구성요소 1’이라 한다), 및 알킬암모늄 이온을 형성하는 3개 이상의 탄소원자를 갖는 화합물, 3개 이상의 탄소원자를 갖는 아미노알킬, 황 함유 아미노산이 아닌 아미노산 및 이들의 혼합물로부터 선택된, 질소 함유 관능기를 포함하는 화합물인 1종 이상의 텅스텐 에칭 억제제(이하 ‘구성요소 2’라 한다)로 이루어지는 화학적 기계적 연마 조성물(이하 ‘제1항 발명’이라 하고, 나머지 청구항도 같은 방식으로 부른다). 【청구항 2~4】각 삭제 【청구항 5】제1항에 있어서, 텅스텐 에칭 억제제가 테트라부틸암모늄 히드록시드, 테트라메틸암모늄 히드록시드 및 그들의 혼합물로부터 선택된 알킬암모늄 이온 관능기를 포함하는 화합물인 조성물. 【청구항 6】제1항에 있어서, 질소 함유 관능기를 포함하는 화합물이 약 9 미만의 pH에서 알킬암모늄 이온을 형성하는 화합물인 조성물. 【청구항 7】제1항에 있어서, 텅스텐 에칭 억제제가 천연 아미노산, 합성 아미노산 및 그의 혼합물로부터 선택된 것인 조성물. 【청구항 8】제1항에 있어서, 텅스텐 에칭 억제제가 글리신인 조성물. 【청구항 9】제1항 및 제5항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 수용액 형태인 조성물. 【청구항 10】제1항에 있어서, 텅스텐 에칭 억제제가 pH 약 5.0 미만의 수용액 중에서 알킬암모늄 이온을 형성하는 1종 이상의 화합물인 조성물....