1. 원고들의 청구를 모두 기각한다.

2. 소송비용은 원고들이 부담한다.

1. 기초사실

가. 원고들의 이 사건 출원발명(을 제1호증, 2016. 3. 3.자 보정에 의한 것) (1) 발명의 명칭 : 블록 공중합체 조성물에서 수득한 후층 나노구조 필름의 제조 방법 (2) 출원일/ 우선일/ 출원번호 : 2014. 9. 11./ 2013. 9. 9. 및 2014. 2. 25./ 특허 제2014-120316호 (3) 청구범위(이하 청구항 1을 ‘이 사건 제1항 발명’이라 한다.) 【청구항 1】하기 단계를 포함하는, 1.1 내지 2의 분산도를 나타내는 블록 공중합체 조성물에서 수득한, 결함이 감소된 후층 나노구조 필름 제조 방법: - 1.1 내지 2의 분산도를 나타내는 블록 공중합체 조성물의 제조 단계, - 용액 중 또는 용액 중이 아닌, 상기 조성물을, 표면상에 침적시키는 단계 - 어닐링 단계. 【청구항 2】~【청구항 21】(기재 생략) 기술분야 【0001】 본 발명은, 처리 표면이 마이크로일렉트로닉스에서의 적용을 위한 마스크로서 사용될 수 있도록 하기 위한, 상기 표면상에 나노구조 결점을 갖지 않는, 1.1 내지 2(한계치 포함)의 분산 지수를 나타내는 블록 공중합체 조성물에서 수득한 20nm 초과 두께를 갖는 나노구조 필름 제조 방법에 관한 것이다.

배경기술 【0002】 나노구조를 발달시키는 이들의 능력으로 인해, 재료 및 전자 또는 광전자 분야에서의 블록 공중합체의 용도는 이제 잘 공지되어 있다.

상기 신규 기술은 몇 나노미터에서 수십 나노미터에 이르는 도메인 크기의 해상도를 갖는 향상된 나노리소그래피 제조 방법에 대한 접근을 가능하게 한다.

【0003】 특히 100nm 미만의 크기의 공중합체까지도 제조하는 블록의 배열을 구조화하는 것이 가능하다.

불행히도, 리소그래피 적용에서 사용될 수 있는 충분한 두께로 필름을 수득하는 것은 종종 어려운 일이다.

【0004】 나노리소그래피의 경우,...