주문
피고인들을 각 징역 2년에 처한다.
피고인
B로부터 366,618,847원을 추징한다.
이유
범 죄 사 실
피고인
A는 서울 금천구 K 건물, 705호에 있는 L 장비 전자부품 제조 및 판매업 등을 목적으로 설립한 주식회사 M( 이하 ‘M’ 라 한다) 의 대표이사이다.
피고인
B는 광주 북구 N에 있는 전자 집적 회로 제조업 등을 목적으로 설립된 피해자 O 주식회사( 대표이사 P, 이하 ‘ 피해자 회사’ 라 한다) 의 장비기술 팀 장비기술 2 파트에서 과장으로 근무하였던 사람이다.
1. 부정경쟁방지 및 영업 비밀보호에 관한 법률위반( 영업 비밀 국외 누설 등) 부정한 이익을 얻거나 영업 비밀 보유자에게 손해를 입힐 목적으로 그 영업 비밀을 외국에서 사용하거나 외국에서 사용될 것임을 알면서 취득 ㆍ 사용 또는 제 3자에게 누설하여서는 아니 된다.
피고인들은 피해자 회사에서 1987년부터 L 칩과 기판에 미세한 금 선 (gold wire) 또는 구리 선 (cu wire) 을 연결해 주는 장비인 Q의 R(R, S) 기술을 습득하기 위해 수년에 걸쳐 세계 1, 2위 Q 제조회사인 미국의 ‘T’ 회사와 싱가폴의 ‘U’ 회사에 상당한 비용을 지불하고 엔지니어들을 보내
어 교육을 받게 하는 등 대규모 자금과 인력을 투자해 습득한 Q의 R 기술이 L 회사의 생산성 및 생산 단가 인하 등에 지대한 영향을 미치는 피해자 회사의 영업 비밀임에도 불구하고, L 후발업체인 중국의 ‘V’ 회사 등으로부터 Q에 대한 R 비용을 받고, 피해자 회사의 장비기술 팀 직원들에게 항공료, 체재비 및 1 인 당 하루 100만 원의 수고비를 지급하여 그들 로 하여금 위 ‘V’ 회사 등을 방문하게 한 후 Q의 R 작업을 수행하도록 함으로써 외국에서 피해자 회사의 영업 비밀을 사용하기로 공모하였다.
피고인들은 위와 같은 공모에 따라 2012. 4. 22. 경부터 같은 달 24. 경까지 중국 우시에 있는 ‘V’ 회사에서, ‘V’ 회사의 Q에 대한 R 작업을 피해자...