1. 특허 심판원이 2020.1.31.2017 당 1145호 사건에 관하여 한 심결을 취소한다.

2. 소송비용은 피고가...

1. 기초 사실

가. 이 사건 특허 발명( 갑 제 2호 증) 1) 발명의 명칭 : C 2) 번역문제 출 일/ 국 제출 원일/ 등록 일/ 등록번호 : 2015. 1. 20./ D/ E/ F 3) 특허권자 : 피고 4) 청구범위 (2018. 8. 31. 정정청구된 것, 정정사항은 밑줄로 표시한다) 【 청구 항 1】 제 2 기판 (2) 의 제 2 접촉 영역 (4 )에 제 1 기판 (1) 의 제 1 접촉 영역 (3) 을 본 딩하기 위한 방법( 이하 ‘ 구성요소 1’ 이라 한다) - 상기 제 2 기판 (2) 은 적어도 하나의 반응 층 (7) 을 가 짐( 이하 ‘ 구성요소 2’ 라 한다) - 에 있어서, 상기 방법은, - 기판 (1, 2) 을 플라즈마 챔버 (20, 20') 나 플라즈마 챔버 (20") 와 연결된 기판 챔버 (27) 로 수용하는 단계( 이하 ‘ 구성요소 3’ 이라 한다) - 플라즈마 챔버 (20, 20', 20") 는 플라즈마 생성을 위해 서로 다른 제 1 및 제 2 주 파수 (f21, f22) 로 작동될 수 있는 적어도 두 개의 발전기 (23, 24)를 포함함( 이하 ‘ 구성요소 4’ 라 한다) - 와, - 플라즈마 챔버 (20, 20', 20" )에 생성된 플라즈마를 제 1 접촉 영역 (3 )에 도포하여서, 제 1 접촉 영역 (3) 상의 저장소 형성층 (6) 내부에 저장 소 (5 )를 형성하는 단계와( 이하 ‘ 구성요소 5’ 라 한다), - 제 1 추출물이나 제 1 추출물 그룹으로 저장 소 (5 )를 적어도 부분적으로 채우는 단계와( 이하 ‘ 구성요소 6’ 이라 한다), - 사전- 본 딩 상호 연결부의 형성을 위해 제 2 접촉 영역 (4) 과 제 1 접촉 영역 (3) 의 접촉을 만드는 단계와( 이하 ‘ 구성요소 7’ 이라 한다), - 제 2 기판 (2) 의 반응 층 (7) 내에 포함된 제 2 추출물과 제 1 추출물의 반응에 의하여, 적어도 부분적으로 강화된 제 1 접촉 영역 (3) 과 제 2 접촉 영역 (4) 사이에 영구적인 본딩을 형성하는 단계( 이하 ‘ 구성요소 8’ 이라 한다 )를 포함하는 것을 특징으로 하는 제 2 기판 (2) 의 제 2 접촉 영역 (4 )에 제 1 기판 (1) 의 제 1 접촉 영역 (3) 을 본 딩하기 위한 방법( 이하...