1. 원고의 청구를 기각한다.

2. 소송비용은 원고가 부담한다.

1. 기초사실

가. 이 사건 특허발명 (갑 제2호증) 1) 발명의 명칭: 유기아미노실란 아미노(amino)는 질소(N)를 말하고, 실란(silane)은 규소(Si)를 포함하는 -SiHn을 말한다. 전구체 전구체(前驅體, precursor)는 일련의 반응과정에서 특정 물질보다 앞 단계에 있는 물질을 말한다. 로부터 산화규소 막을 형성시키는 방법 2) 출원일/ 우선권주장일/ 등록일/ 등록번호: 2009. 11. 20./ 2006. 5. 23./ 2012. 11. 22./ 특허 제1206093호 3) 특허권자: 원고 4) 특허청구범위 【청구항 1】내지 【청구항 52】 삭제 【청구항 53】하기 화학식으로 표시되는 아미노실란을 포함하는 산화규소 막 및 옥시질화규소 막으로부터 선택되는 막을 증착하기 위한 조성물. 【청구항 54】제53항에 있어서, 히드라진, 디메틸 히드라진, 질소 및 암모니아로 이루어진 군으로부터 선택되는 질소원을 추가로 포함하는 조성물. 【청구항 55】제53항에 있어서, 산소, 과산화수소, 오존 및 일산화질소로 이루어진 군으로부터 선택되는 산화제를 추가로 포함하는 조성물. 【청구항 56】내지【청구항 74】 삭제 (이하 청구항 53을 ‘이 사건 제53항 발명’이라 하고, 나머지 청구항들도 같은 방식으로 부른다)

나. 비교대상발명들 1) 비교대상발명 1 (갑 제5호증) 비교대상발명 1은 1994. 5. 13. 공개된 일본 공개특허공보 특개평6-132276호에 게재된 ‘반도체막 형성방법(半導膜形成方法)’에 관한 것으로서, 그 주요 내용은 별지 제1항과 같다. 2) 비교대상발명 2 (갑 제6호증) 비교대상발명 2는 2005. 2. 23. 공개된 대한민국 공개특허공보 제2005-18641호에 게재된'아미노실란 및 오존을 이용한 저온 유전체 유전체(誘電體, dielectric substance)는 정전기장을 가할 때 전기편극은 생기지만 직류전류는 생기지 않게 하는 물질을...