1. 원고의 청구를 기각한다.

2. 소송비용은 원고가 부담한다.

1. 기초 사실

가. 피고의 이 사건 특허발명(갑3호증, 을7호증) 1) 발명의 명칭 : 플라즈마 처리 장치 2) 출원일/ 등록일/ 등록번호 : 2012. 7. 2./ 2015. 1. 14./ 제1484652호 3) 청구범위(특허심판원이 2017. 9. 29. 2016정72 사건에 관하여 한 정정심결에 의하여 정정되어 그 정정이 확정된 것) 【청구항 1】처리 공간을 구획 형성하는 처리 용기(이하 ‘구성요소 1’) 와, 상기 처리 공간에 처리 가스를 공급하는 가스 공급부(이하 ‘구성요소 2’)와, 상기 처리 가스의 플라즈마를 발생시키기 위한 에너지를 도입하는 도입부(이하 ‘구성요소 3’)와, 피처리 기체를 보유지지(保持)하기 위한 보유지지 부재로서, 유전체 재료제의 표면을 갖고, 상기 처리 공간 내에 형성되며, 단면(端面)의 일부가 상방에서 보았을 때 평평하게 형성된 당해 보유지지 부재(이하 ‘구성요소 4’)와, 내벽면이 상기 보유지지 부재의 단면을 둘러싸도록 형성된 포커스 링으로서, 상방에서 보았을 때 당해 포커스 링의 내벽면의 일부는 상기 보유지지 부재의 단면의 일부와 평행하고 또한 평평하게 형성된 당해 포커스 링(이하 ‘구성요소 5’)을 구비하며, 상기 단면의 일부를 포함하는 상기 보유지지 부재의 단면과, 상기 내벽면의 일부를 포함하는 상기 포커스 링의 내벽면과의 간극은 0보다 크고 아래 식으로 표현되는 디바이 길이(λD)의 3배 이하이며(이하 ‘구성요소 6’), 상기 포커스 링은, 당해 포커스 링의 내연(內緣 을 포함하는 제1 영역과, 상기 제1 영역보다 외측의 제2 영역을 포함하고, 상기 제1 영역은, 상기 보유지지 부재의 상면의 연장면을 따라서 형성되어 있으며, 상기 제2 영역은, 상기 보유지지 부재의 상면보다 상방에 형성되어 있으며, 포커스 링의...