beta
주문
피고인
A, B을 각 징역 1년 2월에, 피고인 C을 징역 10월에 각 처한다.
다만, 이 판결...
이유
범죄사실
피고인
A은 2004. 7. 5.부터 2011. 9. 2.까지 화성시 E에 있는 반도체를 제작하는 공정 중 미세한 회로를 집적하기 위해 전자회로 패턴을 유리판 위에 그린 후 빛을 조사하여 감광막이 형성된 반도체 기판 위로 전사하는 장비인 리소그래피 장비를 판매하는 업체인 주식회사 F(이하 ‘피해자 회사’라고 한다)에서 기술지원부 과장으로 근무하면서 삼성전자, 하이닉스에 납품한 리소그래피 장비(모델명 PAS)의 수리, 이설 등의 업무를 담당하였고, 2011. 9. 5. 피해자 회사에서 판매한 중고 리소그래피 장비를 구입하여 수리하여 재판매하는 업체인 주식회사 G(이하 ‘G’ 라고 한다)에 입사하여 피해자 회사가 판매한 리소그래피 장비의 수리, 이설 등의 업무를 담당하였다.
피고인
B은 1997. 12. 1.부터 2011. 8. 31.까지 피해자 회사의 기술지원부 차장으로 근무하면서 하이닉스에 납품한 리소그래피 장비의 수리, 이설 등의 업무를 담당하였고, 2011. 9. 1. G에 입사하여 피해자 회사가 판매한 리소그래피 장비의 수리, 이설 등의 업무를 담당하였다.
피고인
C은 2006. 6. 19.부터 2011. 2. 28.까지 피해자 회사의 기술지원부 과장으로 근무하면서 하이닉스에 납품한 리소그래피 장비의 수리, 이설 등의 업무를 담당하였고, 2011. 3. 1. G에 입사하여 피해자 회사가 판매한 리소그래피 장비의 수리, 이설 등의 업무를 담당하였다.
1. 피고인 A
가. 업무상배임 피고인은 ‘피해자 회사에 근무하는 동안 피해자 회사에서 취득한 모든 정보는 비밀로 유지되어야 하고, 피해자 회사의 사전 서면동의가 없이는 재직 중 또는 퇴사 후에도 공개하지 않는다.’라는 취지의 근로계약서 및 '근로계약이 종료된 직후 피해자 회사의 영업비밀의 이용, 복사 및 배포를 중단하여야...