가. 당사자 1) 원고(최초의 상호는 ‘M 주식회사’였으나 이후 ‘주식회사 F’ 등을 거쳐, 2010. 7. 1. 현재의 상호로 상호가 변경되었다

)는 1982. 11. 10. 설립되어 반도체, LCD, 태양광 전지 제조 공정에 사용되는 NF3 반도체의 드라이 에칭제 또는 반도체, LCD의 증착을 위해 사용되는 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치의 클리닝 가스(cleaning gas) 및 로켓의 추진연료로 사용되는 특수가스의 일종이다 , SiH4, WF6, DCS 등 특수가스를 제조, 판매하는 사업을 영위하고 있다. 2) 피고 C(이하, ‘피고 C’라 한다)는 응용화학 분야의 엔지니어로 1970년 무렵 일본 G에 입사하여 30년가량 연구부장, 기술부장 등을 역임하며 화학공장 건설 등 업무에 종사하다가 1999년 무렵 퇴사하였고, 그 후 2000. 10. 무렵부터 원고의 NF3 제조공장 신설 및 증설과 관련하여 기본설계 자료 등 기술을 제공하다가 2008. 8. 무렵 원고와의 관계를 단절하였다.

3) 피고 D은 2001. 4. 25. 원고 회사에 기술연구소 공장기획팀 사원으로 입사하여 관리팀, 구매팀 차장 등을 역임한 후 2011. 5. 10. 퇴사하였다. 4) 피고 B은 기초화합물의 제조, 가공 및 판매업 등을 목적으로 하는 회사로서 2007년 무렵부터 NF3 제조, 판매사업을 영위하고 있다.

나. NF3의 제조공정 1) NF3의 제조공정은 NF3를 생성하는 합성공정과 생성된 NF3에 포함되어 있는 여러 가지 불순물을 Cracker, Scrubber, 흡착탑, 증류탑 등을 거쳐 정제하여 고순도의 NF3로 만드는 정제공정 등으로 구성되는데, NF3 제조 기술에 따라 DF(Direct Fluorination ...