2. 소송비용은...

가. 이 사건 특허발명(을 제1호증) 1) 발명의 명칭 : B 2) 국제출원일/ 우선권 주장일/ 등록일/ 등록번호 : C/ 2002. 4. 12./ D/ 특허 E 3) 특허권자 : 원고 4) 특허청구범위 【청구항 1】 a) 하기 화학식 XII의 화합물과 제1 할로겐화제/술폰화제를 반응시켜 하기 화학식 XI의 화합물을 형성하는 단계; b) 하기 화학식 XI의 화합물과 하기 화학식 2의 화합물 또는 그의 염을 반응시켜 하기 화학식 X의 화합물 또는 그의 염을 형성하는 단계; c) 하기 화학식 X의 화합물과 제2 할로겐화제/술폰화제(제1 할로겐화제/술폰화제와 동일하거나 또는 상이할 수 있음)를 반응시켜 하기 화학식 IX의 화합물 또는 그의 염을 형성하는 단계; 및 d) 하기 화학식 IX의 화합물과 고리화제를 반응시켜 하기 화학식 V의 화합물을 형성하는 단계를 포함하는, 하기 화학식 V의 화합물 또는 그 염의 제조 방법. <화학식 V> <화학식 XII> <화학식 XI> <화학식 2> <화학식 X> <화학식 IX> 식 중, R1은 H 또는 C1-C8 알킬이고; R2는 C1-C8 알킬, -CH2-O-(C1-C8 알킬), C(O)O-(C1-C8 알킬), -C(O)NH-(C1-C8 알킬), OH, C1-C4 할로알킬 또는 CH2OH이고; R3, R5 및 R6은 H이고; R4는 할로이고; R8a 및 R8b는 H이고; X1은 이탈기이고; X2는 할로 또는 OSO2R"이고, R"는 각각 하나 이상의 할로, 시아노, 니트로, C1-C4 알킬, C1-C4 할로알킬, C1-C4 알콕시 또는 C1-C4 할로알콕시로 치환될 수 있는 C1-C8 알킬, C6-C20 아릴 또는 C1-C20 헤테로아릴이며, 상기 헤테로아릴은 하나 이상의 S, O 또는 N 고리 원자를 함유한다.

【청구항 2 내지 27, 42 내지 47, 58 내지 65】(별지 참조) 【청구항 28 내지41, 48 내지 57】(기재 생략) 【청구항 66 내지 651】(각 삭제)

나. 이 사건 의약품에 대한 품목허가(갑 제1, 7호증) 1) 허가 등을 받은 일자 : 2015. 2. 2. 2) 허가 내용 :...