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특허법원 2019.02.01 2018허7828

거절결정(특)

주문

1. 원고의 청구를 기각한다.

2. 소송비용은 원고가 부담한다.

이유

1. 전제된 사실관계

가. 이 사건 출원발명(갑 제3호증, 을 제1호증) 1) 발명의 명칭 : B 2) 우선권주장일/국제출원일/분할출원일/분할출원번호 : 2007. 10. 16./C/D/E 3) 청구범위(2016. 1. 29.자 보정에 의한 것) 【청구항 1】분포된 전자 사이클로트론 공명(DECR)에 의해 기본 플라즈마 발생원으로 생성된 비균일 플라즈마를 사용하여 복수의 면을 갖는 하나 이상의 부재의 표면을 처리하는 방법으로서(이하 ‘구성요소 1’이라 한다

), 상기 기본 플라즈마 발생원은 상기 전자 사이클로트론 공명을 위한 자석을 구비한 엔드 피팅 및 동축 도파관을 포함하고(이하 ‘구성요소 2’라 한다

), 간격을 두고 떨어진 기본 플라즈마 발생원들(2)의 하나 이상의 고정된 선형 열(linear row)에 대해서 상기 하나 이상의 부재를 한 번 이상 회전 운동시키는 단계(이하 ‘구성요소 3’이라 한다

) 및 상기 하나 이상의 고정된 선형 열의 인접한 기본 플라즈마 발생원들 사이의 간격을 상기 자석 직경의 두 배인 최소 거리와 하기 수학식 1에 의해 결정되는 최대 거리 Dmax 사이에서 설정하는 단계를 포함하고, (수학식 1) 여기서, Rmaxo는 5cm이고, P0는 2×10-3 mbar이고, P는 작업 압력(mbar)이고(이하 ‘구성요소 4’라 한다

), 상기 기본 플라즈마 발생원의 하나 이상의 고정된 선형 열은 상기 하나 이상의 부재의 회전축에 평행하게 배치되고, 상기 플라즈마가 체적상 비균일하더라도 상기 하나 이상의 부재에 대해 체적상 균일한 처리를 제공하며(이하 ‘구성요소 5’라 한다

), 상기 하나 이상의 부재의 기하학적 형태에 따른 설비의 기하학적 형태의 변형을 요구하지 않으면서 상기 하나 이상의 부재의 복수의 면에 균일한 표면처리를 제공하는 것(이하 ‘구성요소 6’이라 한다

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